多面镜——2021国际版画展

MIRROR INFLECTION:

2021 International Printmaking Exhibition

    版画由于自身的重复性和复制性,在近现代世界艺术史中发挥了极大媒介推动力。其独特的创作与生产方式,使版画在文艺复兴后成为了世界范围内的新的思考和生产方式。世界范围内的艺术家也在不断地探索并更新与版画创作有关的技法和表现方式,为版画这一独特媒介带来更多的可能性。在全球性的多元文化融合的背景下,地缘边界与时间在对于全球艺术生产的影响被急剧弱化,中西方以版画为主要创作媒介的艺术家们也在不同的物理空间、地理环境和时区交错中,主动思考并彼此互相回应着来自不同地区的关切;如同多面镜般彼此反射并相互连结,共同进行着全球范围内的艺术生产。作为拥有相似创作方式的特殊媒介,版画的媒介特征影响着在这一媒介之下的思考方法;从这点上来看,版画恰恰成为了不同文化语境下的一种共通共享的视觉语言。一如纽约现代艺术博物馆(MoMA)版画部学术策展人Sarah Suzuki所说的——版画在当代正经历着某种隐秘的文艺复兴,它找到了自身的方法,影射并参与进入当代艺术更广大范围的活动。

值得注意的是,由于版画相似的制作方式,此次展览也希望将来自世界范围内的不同创作背景的艺术家们,以其各自背后的版画工作室为集结,就创作与生产方式这一话题展开讨论。旨在讨论版画的具体创作与生产过程中的新技法与新的倾向。希望这一讨论形成的合力,能够为版画这一古老媒介在当代的变形和演进提出更多的可能性,使其能被更广泛的参考和观看,更积极地面对当代艺术媒介融合的趋势。这也呼应了Sarah Suzuki在《版画人:当代版画的简要分类》(Print People: A Brief Taxonomy of Contemporary Printmaking) 中提到的:出版商、版画家、造纸商、画廊主、学者、策展人等角色所共同构建的,版画的世界。

 

策展人

方小龙博士

在此次上海虹桥当代艺术馆举办的《多面镜——2021国际版画展》展览中,来自世界各地的版画家们以不同的背景和版画技术推进版画语言的运用和传承。尽管版画是唯一的材料媒介,但他们共同维护版画传统实践的同时,也积极参与当代艺术的叙事进程。

本次参展的大部分艺术都认为自己首先是一个艺术家,而不是传统意义上的版画家。除了版画制作方法的多样性,这些艺术家的背景也代表了不同文化土壤和技术方法的多样性。从地理上讲,这些艺术家有来自波兰、塞尔维亚、英国、俄罗斯等欧洲国家,有来自中国、越南和日本等亚洲国家,以及美国、加拿大和加勒比地区等北美国家。从艺术上讲,一部分艺术家采用了广泛的版画技术,从传统的蚀刻,到铜版,到凹版,再到木刻;而另一部分则通过模糊版画与印刷品类的界限对传统的版画模式提出挑战。这些作品并不都展示炫丽的视觉效果或体现制作者精妙的手艺,它们同样揭示了一种当代视觉话语所能产生的动态及多元性。如果我用一句话来概括这个展览,那就是这些版画作品用内在产生的联动性,照亮了我们所生活的世界。

《多面镜——2021国际版画展》参展的艺术家对于版画功能性和材料性的探索对于当代艺术是十分有意义的。随着对数字技术的日益依赖,许多当代艺术家逐渐接受了对于触觉体验的新奇感,而其他艺术家则青睐摄影和数字化所带来的更多可能性。《多面镜——2021国际版画展》中的版画作品,不仅具有形式上的多样性和深刻的观念,而且就像在过去几个世纪中那样,将版画中的艺术创造和精神在未来继续发挥作用。

 
联合策展人
Fred HC Liang(美)
美国麻省艺术与设计学院版画系教授

参展艺术家名单
  • Gregory Amenoff(格雷戈里·阿门诺夫)[美国]
  • Nathen Catlin (内森·卡特林) [美国]
  • Predrag Dimitrijevič (普雷德拉格·迪米特里耶维奇) [塞尔维亚]
  • Carl Fudge (卡尔·福吉) [英国]
  • 宫山广明(Miyayama Hiroaki )[日本]
  • 何为民(HE Weimin)[中国]
  • 卢治平 (LU Zhiping) [中国]
  • Ingrid Ledent(英格里德·勒登特)[比利时]
  • Fred HC Liang (梁汉昌) [美国]
  • Peter Wayne Lewis (彼得·韦恩·刘易斯) [牙买加]
  • 铃木隆太(Ryuta Suzuki)[日本]
  • Jennifer Nuss (詹妮弗·纳斯) [美国]
  • Brian Novatny(布赖恩·诺瓦特尼) [美国]
  • Simonette Quamina (西蒙妮特·夸米纳) [加拿大]
  • Kiki Smith(奇奇·史密斯)[美国]
  • Dasha Shishkin (达沙·希什金) [俄罗斯]
  • Luis Silva(路易斯·席尔瓦)[美国]
  • Vicky Tomayko(维奇·托梅科)[美国]
  • Tomas Vu-Daniel(托马斯·武·丹尼尔)[越南]
  • 杨锋 (YANG Feng) [中国]
  • 袁佐(YUAN Zuo)[中国]
  • 远藤龙太(Ryuta Endo)[日本]
  • 张远帆 (ZHANG Yuanfan) [中国]
  • 周小平 (ZHOU Xiaoping) [中国]
  • Craig Zammiello (克雷格·扎米洛) [美国]
  • Malgorzata Zurakowska(马尔戈萨塔·祖拉科夫斯卡)[波兰]
  • 赵永泉 (ZHAO Yongquan) [中国]
  • 章愳 (ZHANG Ju) [中国]
部分作品欣赏

Sequences(顺序)

Lithography, Computer print, Video-projection on white sand (石版画 + 数码打印,投影仪,砂石)

Ingrid Ledent(英格里德·勒登特)

枕头和椅子B

雕塑作品 (Sculpture)

卢治平 (LU Zhiping)、周小平(ZHOU Xiaoping)

Blue Na Keiken(蓝色的那克肯)

Woodblock, Japanese paint, oily screen, acrylic, wood engraving (木版画、日本颜料、油性丝网、丙烯)

铃木隆太(Ryuta Suzuki)

Keeper(守望者)

Collagraph print on BFK Rives paper (铜版画综合版)

Simonette Quamina(西蒙妮特·夸米纳)

Keep the sick on the left(抛弃疾病)

Etching (铜版蚀刻 + 激光切割)

Dasha Shishkin(达沙·希什金)

 

《源氏物语》系列 – 若菜・下

Aquatint 凹版(铜版飞尘腐蚀)

宫山广明(Miyayama Hiroaki)

Rooster(公鸡)

Woodcut, Glue, Handcut paper on rice paper(木刻,拼贴,宣纸)

Luis Silva(路易斯·席尔瓦)

Notes For the Near Threatened(濒临灭绝的注意事项)

Monotype, Silkscreen, Collage and paint on 9 sheets BFK Rives(独幅版画,丝网版画,拼贴)

Vicky Tomayko(薇姬·托梅科)

春风沉醉的夜晚

黑白木刻(Woodcut)

杨锋 (YANG Feng)

游记-怒川

木版画 (Woodcut)

张远帆(ZHANG Yuanfan)

Circles of Time(时间的形状)

Photolithography (照相平版)

Malgorzata Zurakowska(马尔戈萨塔·祖拉科夫斯卡)

夏至

综合版画(Lithography)

赵永泉(ZHAO Yongquan)

New world – The sea II《大海II》

综合版画 (Lithography)

章愳(ZHANG Ju)

展览信息
主办单位 Organizer:上海市对外文化交流协会

Shanghai International Culture Association,

Shanghai, China

上海虹桥当代艺术馆

Shanghai Hongqiao Contemporary Art Museum,

Shanghai, China

 

联合主办 Jointly Organizer:

长宁区对外交流中心

Foreign Exchange Service Center of Changning District

承办单位 Operator:

上海虹桥半岛版画艺术中心

Shanghai Hongqiao Peninsula Printmaking Art Center,

Shanghai, China

展览支持Exhibition Support:

纽约哥伦比亚大学 雷若·尼曼版画中心(美国)

LeRoy Neiman Center for Print Studies, Columbia University, New York, U.S.A

颖画廊 (中国)

Ying Gallery, Beijing, China

赞助单位 Supporting Agency:

青岛康颂纸制品有限公司

Qingdao Canson Paper Co.,Ltd

展览时间 Exhibition time:

2021.9.3-2021.9.22

展览地点 Exhibition venue:

上海虹桥当代艺术馆

Shanghai Hongqiao Contemporary Art Museum,

Shanghai, China

中国上海市仙霞路650号

No.650, Xianxia Road, Shanghai, China.

本篇文章中发布的作品版权归作者本人所有,上海虹桥当代艺术馆享有展览权,转载请注明出处,未经授权不得用于商业用途。